고품질 아노다이징 기계 반자동 알루미늄 아노다이징 라인
① 알루미늄 프로파일 표면 처리:
표면 전처리라고도하는 알루미늄 프로파일의 표면 처리는 물리적 및 화학적 물질을 사용하여 알루미늄 프로파일 표면의 먼지를 제거하여 알루미늄 프로파일 본체가 노출되도록하는 것이므로 나중에 알루미늄의 산화 처리에 편리합니다. 프로파일 표면.
②알루미늄 프로파일 표면 탈지 공정:
알루미늄 프로파일에 대한 탈지 공정의 목적은 알루미늄 프로파일 표면의 산업용 윤활유 및 부식 방지 오일과 프로파일 표면에 부착된 먼지 및 불순물을 제거하여 알루미늄 프로파일의 균일한 알칼리 부식을 보장하는 것입니다. 알칼리 에칭 탱크의 청결을 보장하기 위해;알루미늄 프로파일의 표면 처리 품질을 개선합니다.
③알루미늄 프로파일 산 에칭 공정:
알루미늄 프로파일 표면의 산 에칭 공정은 알루미늄 프로파일을 탈지한 후 표면 산 부식 처리를 수행하는 것입니다.주요 목적은 알루미늄 프로파일 표면의 다른 금속 원소의 산화 후 형성된 산화물과 프로파일에 의해 자연적으로 형성된 산화막을 제거하는 것입니다.그것은 산 부식 처리 직후에 필요합니다.수세를 실시하고, 수세의 온도는 프로파일 표면의 흐름 자국을 피하기 위해 일찍 50 °C로 제어한 다음 흐르는 물로 청소하십시오.알루미늄 프로파일은 구리 원소를 포함하고 있기 때문에 산성 부식 후 표면이 어두워지며 표면을 밝은 은색으로 만들기 위해 질산 용액에 3-5분 동안 담가야 합니다.
④알루미늄 프로파일의 알칼리 에칭 공정:
알루미늄 프로파일의 알칼리 에칭 공정의 주요 목적은 산 에칭 공정과 거의 동일하며 산화 공정 중에 알루미늄 프로파일 표면의 잔류 물질 및 변성층을 제거하고 표면에 남아있는 스크래치 결함을 제거하는 것입니다. 압출 공정 중 알루미늄 프로파일의 표면;표면 알칼리 에칭 처리는 알루미늄 프로파일 표면의 전체 품질에 중요한 역할을 합니다.
⑤알루미늄 프로파일 중화 공정:
알루미늄 프로파일 중화 공정의 목적은 알칼리 용액에 용해되지 않는 산 에칭 및 알칼리 에칭 처리 후 알루미늄 프로파일 표면에 남아있는 구리, 망간, 철, 규소 및 기타 합금 원소 또는 불순물을 제거하는 것입니다. 알루미늄 프로파일을 중화하십시오.알칼리 에칭 처리 후 남은 잿물은 일반적으로 30~50% 질산 용액을 사용한다.고규소 알루미늄 합금의 경우, 1:3 산의 부피비로 질산과 불화수소의 혼합물을 사용하여 합금으로 주조합니다.실리콘은 수소 및 불화수소산과 반응하여 불화규산을 형성하고 알루미늄 표면을 남깁니다.
⑥알루미늄 프로파일의 아노다이징 처리:
알루미늄 프로파일을 아노다이징하는 방법은 용액을 매체로 사용하고 팁 방전을 사용하여 알루미늄 프로파일 표면에 산화 피막을 형성하여 얻은 보호 층으로 인해 알루미늄 프로파일이 초 내식성을 갖도록하는 것입니다. 양극 처리 된 알루미늄 프로파일로 높은 경도와 내식성을 가지며 표준 두께는 10-12μ로 알루미늄 프로파일의 내산화성을 향상시키고 프로파일의 미학을 향상시킬 수 있습니다.
황산 양극 처리는 일반적으로 10-20% H2SO4를 전해질로 사용하고 작동 온도는 15-20℃, 전류 밀도는 1-2.5A/dm2이며 전기 분해 시간은 필름 두께 요구 사항에 따라 다르며 일반적으로 20-60분입니다.가장 일반적인 전원은 직류입니다.인가 전압은 전해질의 전도도, 온도 및 알루미늄 함량에 따라 달라집니다.일반적으로 15-20V입니다.공정 매개변수는 멤브레인의 성능에 상당한 영향을 미칩니다.
⑦알루미늄 프로파일 표면 밀봉 처리:
알루미늄 프로파일이 양극 산화 된 후 표면에 미세 기공이 형성되어 사용 중에 산화되고 부식되기 쉽습니다.실링 처리는 아노다이징 처리 후 실시해야 합니다.홀 공정은 유럽에서 시작됨), 황산 아노다이징은 일반적으로 전해질로 10-20% H2SO4를 사용하고, 작동 온도는 15-20℃, 전류 밀도는 1-2.5A/dm2, 전기분해 시간은 필름 두께에 따라 다릅니다. 요구 사항, 일반적으로 20-60분.가장 일반적인 전원은 직류입니다.인가 전압은 전해질의 전도도, 온도 및 알루미늄 함량에 따라 달라집니다.일반적으로 15-20V입니다.공정 매개변수는 멤브레인의 성능에 상당한 영향을 미칩니다.
